प्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्ता
(1)1एल/2एल---आयरन बेस के साथ मैनुअल लिफ्टिंग/एसएस बेस के साथ मैनुअल लिफ्टिंग/इलेक्ट्रिक लिफ्टिंग
(2)3एल/5एल/10एल/20एल/30एल/50एल---मैन्युअल लिफ्टिंग/इलेक्ट्रिक लिफ्टिंग
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
प्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्तातरल को गैस में बदलने की भौतिक प्रक्रिया है। सामान्यतया, बाष्पीकरणकर्ता एक ऐसी वस्तु है जो तरल पदार्थों को गैस में परिवर्तित करती है। उद्योग में बड़ी संख्या में बाष्पीकरणकर्ता हैं, जिनमें से प्रशीतन प्रणालियों में उपयोग किया जाने वाला बाष्पीकरणकर्ता भी एक है। चार प्रमुख प्रशीतन भागों में से बाष्पीकरणकर्ता एक महत्वपूर्ण घटक है। कम तापमान वाला संघनित तरल बाष्पीकरणकर्ता से होकर गुजरता है, बाहरी हवा के साथ गर्मी का आदान-प्रदान करता है, वाष्पीकृत होता है और गर्मी को अवशोषित करता है, जिससे शीतलन प्रभाव प्राप्त होता है। बाष्पीकरणकर्ता मुख्य रूप से दो भागों से बना होता है: ताप कक्ष और वाष्पीकरण कक्ष। हीटिंग कक्ष तरल को वाष्पीकरण के लिए आवश्यक गर्मी प्रदान करता है, तरल के उबलने और वाष्पीकरण को बढ़ावा देता है; वाष्पीकरण कक्ष गैस तरल चरण को पूरी तरह से अलग कर देता है। हीटिंग कक्ष में उत्पन्न वाष्प में बड़ी मात्रा में तरल फोम होता है, जिसे स्वयं एकत्रीकरण या बड़े वाष्पीकरण कक्ष में डिमिस्टर की क्रिया के माध्यम से वाष्प से अलग किया जा सकता है। आमतौर पर, डिमिस्टर वाष्पीकरण कक्ष के शीर्ष पर स्थित होता है।
रोटरी इवेपोरेटर का उपयोग मुख्य रूप से फार्मास्युटिकल, रसायन, जैविक उत्पादों और अन्य उद्योगों के वैज्ञानिक अनुसंधान और उत्पादन में किया जाता है। इसके कार्यों में वाष्पीकरण, सांद्रण, क्रिस्टलीकरण, सुखाना, पृथक्करण और विलायक पुनर्प्राप्ति शामिल हैं।
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उत्पाद परिचय
प्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्ताऑपरेटिंग दबाव के आधार पर तीन प्रकारों में वर्गीकृत किया गया है: वायुमंडलीय दबाव, दबाव और अवसादन।
वायुमंडलीय बाष्पीकरणकर्ता वायुमंडलीय दबाव के करीब दबाव पर काम करता है, जिसका अर्थ है कि इसका आंतरिक दबाव बाहरी वायुमंडलीय दबाव से थोड़ा अधिक या करीब है।
उच्च परिचालन दबाव के कारण, इस बाष्पीकरणकर्ता की थर्मल दक्षता अपेक्षाकृत कम है क्योंकि पानी का क्वथनांक अधिक है, जिससे वाष्पीकरण के लिए आवश्यक तापमान तक पहुंचने के लिए अधिक ऊर्जा की आवश्यकता होती है।
वायुमंडलीय बाष्पीकरणकर्ताओं का उपयोग आमतौर पर उन स्थितियों में किया जाता है जहां वाष्पीकरण दर अधिक नहीं होती है और उपकरण और रखरखाव की लागत को यथासंभव कम करने की आवश्यकता होती है।
दबावयुक्त बाष्पीकरणकर्ता वायुमंडलीय दबाव से अधिक दबाव पर काम करता है।
ऑपरेटिंग दबाव बढ़ाने से पानी का क्वथनांक बढ़ सकता है, जिसका अर्थ है कि बाष्पीकरणकर्ता को उच्च तापमान पर संचालित किया जा सकता है, जिससे वाष्पीकरण दर और थर्मल दक्षता में संभावित सुधार हो सकता है।
दबाव बाष्पीकरणकर्ताओं का उपयोग आमतौर पर उन स्थितियों में किया जाता है जहां अस्थिर, गर्मी संवेदनशील, या संक्षारक सामग्रियों को संसाधित करने की आवश्यकता होती है, क्योंकि ये सामग्रियां अधिक स्थिर हो सकती हैं या उच्च तापमान पर संभालना आसान हो सकता है।
हालाँकि, दबावयुक्त बाष्पीकरणकर्ताओं को भी उच्च दबाव और तापमान का सामना करने की आवश्यकता होती है, इसलिए उनकी डिजाइन और विनिर्माण लागत आमतौर पर अधिक होती है।
दबाव कम करने वाला (या वैक्यूम) बाष्पीकरणकर्ता वायुमंडलीय दबाव से नीचे के दबाव पर काम करता है, आंतरिक दबाव को कम करके पानी के क्वथनांक को कम करता है, जिससे कम तापमान पर वाष्पीकरण होता है।
इस बाष्पीकरणकर्ता में महत्वपूर्ण थर्मल दक्षता लाभ हैं क्योंकि कम क्वथनांक का मतलब कम ऊर्जा खपत है।
वैक्यूम बाष्पीकरणकर्ताओं का व्यापक रूप से उन स्थितियों में उपयोग किया जाता है जहां ऊर्जा संरक्षण, सामग्री थर्मल अपघटन की रोकथाम, या उच्च चिपचिपाहट को संभालने, आसानी से स्केलिंग सामग्री की आवश्यकता होती है।
हालाँकि, वैक्यूम वातावरण बनाए रखने की आवश्यकता के कारण, दबाव कम करने वाले बाष्पीकरणकर्ता की सीलिंग और उपकरण जटिलता अपेक्षाकृत अधिक है।
बाष्पीकरणकर्ता में विलयन की गति के अनुसार, निम्न हैं:
1.
गोलाकार प्रकार. उबलता हुआ घोल हीटिंग कक्ष में हीटिंग सतह से कई बार गुजरता है, जैसे केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब प्रकार, निलंबित टोकरी प्रकार, बाहरी हीटिंग प्रकार, लेविन प्रकार और मजबूर परिसंचरण प्रकार।
2.
एकतरफ़ा प्रकार. उबलता हुआ घोल बिना प्रसारित हुए हीटिंग कक्ष में हीटिंग सतह से गुजरता है, और केंद्रित घोल तुरंत डिस्चार्ज हो जाता है, जैसे बढ़ती फिल्म, गिरती फिल्म, सरगर्मी फिल्म और केन्द्रापसारक फिल्म।
3.
सीधा संपर्क प्रकार. ताप स्थानांतरण के लिए ताप माध्यम और समाधान सीधे संपर्क में आते हैं, जैसे कि विसर्जन दहन बाष्पीकरणकर्ता।
वाष्पीकरण उपकरण के संचालन के दौरान, बड़ी मात्रा में ताप भाप की खपत होती है। गर्म भाप को बचाने के लिए, बहु प्रभाव वाष्पीकरण उपकरणों और भाप पुनर्संपीड़न बाष्पीकरणकर्ताओं का उपयोग किया जा सकता है। रसायन, प्रकाश उद्योग और अन्य क्षेत्रों में बाष्पीकरणकर्ताओं का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
उत्पाद की विशेषताएँ
1. वाष्पीकरण विधि द्वारा वर्गीकृत:
प्राकृतिक वाष्पीकरण: को संदर्भित करता हैप्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्ताकिसी घोल का उसके क्वथनांक से नीचे के तापमान पर, जैसे समुद्री जल में सूखने वाला नमक। इस मामले में, विलायक केवल समाधान की सतह पर वाष्पीकृत होता है, जिसके परिणामस्वरूप विलायक वाष्पीकरण की दर कम होती है।
उबलना वाष्पीकरण: घोल को क्वथनांक तक गर्म करें और इसे उबलने की अवस्था में वाष्पित करें। उद्योग में वाष्पीकरण क्रिया मूलतः इसी प्रकार की होती है।
2. ताप विधि द्वारा विभाजित:
प्रत्यक्ष ताप स्रोत तापन ईंधन को हवा के साथ मिलाने की वाष्पीकरण प्रक्रिया है, जिससे इसके दहन से उत्पन्न उच्च तापमान वाली लौ और धुंआ घोल को गर्म करने और विलायक को वाष्पीकृत करने के लिए एक नोजल के माध्यम से सीधे वाष्पित घोल में छिड़का जाता है।
अप्रत्यक्ष ताप स्रोत कंटेनरों के बीच की दीवारों को गर्म करता है और इसे वाष्पित समाधान में स्थानांतरित करता है। ऊष्मा स्थानांतरण प्रक्रिया जो दीवार पर लगे हीट एक्सचेंजर में होती है।
3. परिचालन दबाव द्वारा विभाजित:
इसे वायुमंडलीय दबाव, दबावयुक्त और अवसादग्रस्त (वैक्यूम) वाष्पीकरण संचालन में विभाजित किया जा सकता है। जाहिर है, थर्मोसेंसिव सामग्री जैसे एंटीबायोटिक समाधान, फलों के रस आदि के लिए, उन्हें कम दबाव में संसाधित किया जाना चाहिए। और उच्च चिपचिपाहट वाली सामग्रियों को वाष्पीकरण के लिए दबाव वाले उच्च तापमान ताप स्रोत (जैसे थर्मल तेल, पिघला हुआ नमक, आदि) द्वारा गर्म किया जाना चाहिए
4. प्रभावशीलता के आधार पर स्कोर:
इसे एकल प्रभाव और बहु प्रभाव वाष्पीकरण में विभाजित किया जा सकता है। यदि वाष्पीकरण द्वारा उत्पन्न द्वितीयक भाप को सीधे संघनित किया जाता है और अब उपयोग नहीं किया जाता है, तो इसे एकल प्रभाव वाष्पीकरण कहा जाता है। यदि द्वितीयक भाप का उपयोग अगली हीटिंग भाप के रूप में किया जाता है और कई बाष्पीकरणकर्ता श्रृंखला में जुड़े होते हैं, तो इस वाष्पीकरण प्रक्रिया को बहु प्रभाव वाष्पीकरण कहा जाता है।
उत्पाद की विशेषताएँ
1.
बाष्पीकरणकर्ता के लिए 200 मिमी के आंतरिक व्यास और लगभग 100 मिमी की ऊंचाई वाला एक धातु गोलाकार बेसिन।
2.
बाष्पीकरणकर्ता चिकनी भीतरी दीवारों वाली एक धातु की गोलाकार संरचना है, और बाष्पीकरणकर्ता के किनारों पर कोई गड़गड़ाहट या खरोंच नहीं होनी चाहिए।
3.
पानी के संपर्क में आने वाले सभी हिस्से चिकने होने चाहिए, और उनके जुड़ने या जोड़ने वाले हिस्सों पर वेल्ड कड़े, मजबूत और पानी के रिसाव से मुक्त होने चाहिए।
4.
बाष्पीकरणकर्ता के सभी घटकों और हिस्सों का संयोजन सही होना चाहिए, बिना किसी ढीलेपन, विरूपण या अन्य दोष के, जो इसके उपयोग को प्रभावित कर सकता है।
5.
बाष्पीकरणकर्ता के प्रत्येक घटक पर लागू सुरक्षात्मक परत प्रदूषण या जंग जैसे दोषों के बिना दृढ़, एक समान और चिकनी होनी चाहिए।
6.
बाष्पीकरणकर्ता और इंस्टॉलेशन फ्रेम को स्थापित करना आसान होना चाहिए और सामान्य उपयोग के दौरान हवा के बल के कारण बाष्पीकरणकर्ता को अलग होने से रोकने में सक्षम होना चाहिए।
7.
अनुलग्नक: एक स्नातक मापने वाला कप, एक जल भंडार, एक स्थापना फ्रेम, और एक धातु जाल कवर।
अंतर दीवार ताप अंतरण प्रकार
आमतौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला विभाजन ताप स्थानांतरणप्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्ताबाष्पीकरणकर्ता में समाधान के निवास के आधार पर इसे मोटे तौर पर दो श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है: परिसंचरण प्रकार और एक{0}}मार्ग प्रकार।
परिसंचारी बाष्पीकरणकर्ता
इस प्रकार का बाष्पीकरणकर्ता समाधान को बाष्पीकरणकर्ता में प्रसारित करने की अनुमति देता है। परिसंचरण के विभिन्न कारणों के कारण, इसे दो श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है: प्राकृतिक परिसंचरण और मजबूर परिसंचरण।
1. सेंट्रल सर्कुलेशन ट्यूब बाष्पीकरणकर्ता, जिसे मानक बाष्पीकरणकर्ता के रूप में भी जाना जाता है। इसका तापन कक्ष ऊर्ध्वाधर ट्यूब बंडलों से बना होता है, जिसके बीच में एक बड़े व्यास वाली केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब होती है, और अन्य छोटे व्यास वाली तापन ट्यूबों को क्वथनांक ट्यूब कहा जाता है। केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब के बड़े आकार के कारण, समाधान की एक इकाई मात्रा द्वारा कब्जा कर लिया गया गर्मी हस्तांतरण सतह उबलते ट्यूब में समाधान की एक इकाई मात्रा द्वारा कब्जा कर लिया गया से छोटा है। इसका मतलब यह है कि केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब और अन्य हीटिंग ट्यूबों में समाधान की हीटिंग डिग्री अलग-अलग होती है, जिसके परिणामस्वरूप केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब की तुलना में उबलते ट्यूब में तरल मिश्रण का वाष्प घनत्व कम होता है। इसके अलावा, बढ़ती भाप के ऊपर की ओर चूषण प्रभाव के कारण बाष्पीकरणकर्ता में घोल केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब से उबलते हुए ट्यूब की ओर बढ़ते हुए एक परिसंचारी प्रवाह का निर्माण करेगा। इस प्रकार का चक्र मुख्यतः विलयन के घनत्व में अंतर के कारण होता है, इसलिए इसे प्राकृतिक चक्र कहा जाता है। यह प्रभाव बाष्पीकरणकर्ता के अंदर गर्मी हस्तांतरण दक्षता में सुधार के लिए फायदेमंद है।
समाधान के अच्छे संचलन को सुनिश्चित करने के लिए, केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब का क्रॉस-अनुभागीय क्षेत्र आम तौर पर अन्य हीटिंग ट्यूबों के कुल क्रॉस-अनुभागीय क्षेत्र का 40-50% होता है; हीटिंग ट्यूब की ऊंचाई आम तौर पर 1-2 मीटर होती है; हीटिंग ट्यूब का व्यास 25-75 मिमी के बीच है। इस प्रकार के बाष्पीकरणकर्ता का व्यापक रूप से इसकी कॉम्पैक्ट संरचना, आसान निर्माण, अच्छे ताप हस्तांतरण और विश्वसनीय संचालन के कारण उपयोग किया जाता है। हालाँकि, संरचनात्मक सीमाओं के कारण, साइकिल चलाने की गति अधिक नहीं है। हीटिंग कक्ष में समाधान को लगातार प्रसारित करने से, इसकी एकाग्रता हमेशा पूर्ण समाधान के करीब पहुंचती है, जिसके परिणामस्वरूप समाधान का उच्च क्वथनांक होता है और प्रभावी तापमान अंतर में कमी आती है। यह परिसंचारी बाष्पीकरणकर्ताओं का एक सामान्य दोष है। इसके अलावा, उपकरणों की सफाई और रखरखाव पर्याप्त सुविधाजनक नहीं है, इसलिए इस बाष्पीकरणकर्ता के लिए उत्पादन आवश्यकताओं को पूरी तरह से पूरा करना मुश्किल है।
2. परिसंचारी बाष्पीकरणकर्ता में वाष्पित होने वाले तरल पदार्थ के आसान क्रिस्टलीकरण, स्केलिंग और कठिन सफाई के नुकसान को दूर करने के लिए, मानक बाष्पीकरणकर्ता की संरचना में एक अधिक उचित सुधार किया गया है, जो कि निलंबित टोकरी बाष्पीकरणकर्ता है। हीटिंग चैंबर 4 एक टोकरी की तरह है, जो बाष्पीकरणकर्ता खोल के निचले हिस्से में लटका हुआ है, और हीटिंग चैंबर की बाहरी दीवार और बाष्पीकरणकर्ता की आंतरिक दीवार के बीच एक कुंडलाकार चैनल के साथ एक केंद्रीय परिसंचरण ट्यूब द्वारा प्रतिस्थापित किया गया है। समाधान हीटिंग ट्यूब के केंद्र के साथ ऊपर उठता है और फिर एक चक्र बनाने के लिए निलंबित टोकरी हीटिंग कक्ष की बाहरी दीवार और बाष्पीकरणकर्ता की आंतरिक दीवार के बीच कुंडलाकार अंतराल के साथ नीचे की ओर बहता है। कुंडलाकार अंतराल क्षेत्र हीटिंग ट्यूब के कुल क्रॉस-अनुभागीय क्षेत्र का लगभग 100 से 150% होने के कारण, समाधान परिसंचरण गति एक मानक बाष्पीकरणकर्ता की तुलना में अधिक है, जो 1.5 मीटर/सेकेंड तक पहुंच जाती है। इसके अलावा, इस बाष्पीकरणकर्ता के हीटिंग कक्ष को रखरखाव या प्रतिस्थापन के लिए ऊपर से हटाया जा सकता है, और गर्मी का नुकसान भी अपेक्षाकृत छोटा होता है। इसका मुख्य नुकसान इसकी जटिल संरचना और प्रति यूनिट ताप हस्तांतरण क्षेत्र में उच्च धातु की खपत है।
3. ऊपर उल्लिखित प्राकृतिक परिसंचरण बाष्पीकरणकर्ता की परिसंचरण गति पर्याप्त नहीं है, आमतौर पर 1.5 मीटर/सेकेंड से कम है। उच्च चिपचिपाहट, आसान क्रिस्टलीकरण या गंभीर स्केलिंग के साथ समाधानों को वाष्पित करने के लिए बाष्पीकरणकर्ता को अधिक उपयुक्त बनाना, और ऑपरेटिंग चक्र को बढ़ाने और सफाई के समय की संख्या को कम करने के लिए समाधान परिसंचरण गति को बढ़ाना।
इसकी संरचनात्मक विशेषता हीटिंग कक्ष के शीर्ष पर एक उबलने वाला कक्ष जोड़ना है। उबलते कक्ष में तरल स्तंभ द्वारा जोड़े गए स्थैतिक दबाव के कारण हीटिंग कक्ष में समाधान हीटिंग ट्यूब में उबलता नहीं है। यह तभी उबलना शुरू कर सकता है जब यह क्वथनांक कक्ष तक बढ़ जाता है और दबाव कम हो जाता है। इसलिए, घोल का उबलना और वाष्पीकरण गर्मी हस्तांतरण सतह के बिना हीटिंग कक्ष से उबलते कक्ष में चला जाता है, इस प्रकार हीटिंग ट्यूब में क्रिस्टल या गंदगी के गठन से बचा जाता है। इसके अलावा, इस बाष्पीकरणकर्ता के परिसंचरण ट्यूब का क्रॉस-अनुभागीय क्षेत्र हीटिंग ट्यूब के कुल क्रॉस-अनुभागीय क्षेत्र का लगभग 2-3 गुना है, और समाधान परिसंचरण की गति 2.5 से 3 मीटर/सेकेंड या उससे अधिक तक पहुंच सकती है, इसलिए समग्र गर्मी हस्तांतरण गुणांक भी अपेक्षाकृत अधिक है। इस बाष्पीकरणकर्ता का मुख्य नुकसान तरल स्तंभ के स्थैतिक दबाव शीर्ष प्रभाव के कारण बड़े तापमान अंतर का नुकसान है (विवरण के लिए 6.3.1 देखें)। एक निश्चित प्रभावी तापमान अंतर बनाए रखने के लिए, भाप को गर्म करने के लिए उच्च दबाव की आवश्यकता होती है। इसके अलावा, उपकरण बड़ा है, बहुत सारी सामग्रियों की खपत करता है, और लंबे कारखानों की आवश्यकता होती है। ऊपर उल्लिखित प्राकृतिक परिसंचरण बाष्पीकरणकर्ता के अलावा, उच्च चिपचिपाहट, आसान क्रिस्टलीकरण और स्केलिंग के साथ सामग्री को वाष्पित करते समय एक मजबूर परिसंचरण बाष्पीकरणकर्ता का भी उपयोग किया जाता है। इस बाष्पीकरणकर्ता में, समाधान का परिसंचरण मुख्य रूप से बाहरी शक्ति पर निर्भर करता है, जिसे परिसंचरण उत्पन्न करने के लिए एक पंप द्वारा एक निश्चित दिशा में प्रवाहित करने के लिए मजबूर किया जाता है। परिसंचरण गति के आकार को पंप की प्रवाह दर को समायोजित करके नियंत्रित किया जा सकता है, आमतौर पर 2.5 मीटर/सेकेंड से ऊपर। मजबूर परिसंचरण बाष्पीकरणकर्ता का गर्मी हस्तांतरण गुणांक भी सामान्य प्राकृतिक परिसंचरण की तुलना में अधिक है। लेकिन इसका स्पष्ट नुकसान उच्च ऊर्जा खपत है, जिसके लिए प्रति वर्ग मीटर हीटिंग क्षेत्र में लगभग 0.4-0.8 किलोवाट की आवश्यकता होती है।
एकतरफ़ा बाष्पीकरणकर्ता
इस प्रकार की मुख्य विशेषताप्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्तायह है कि समाधान केवल एक बार बाष्पीकरणकर्ता में हीटिंग कक्ष से गुजरता है और प्रवाह को प्रसारित किए बिना एक केंद्रित तरल के रूप में छुट्टी दे दी जाती है। जब समाधान हीटिंग कक्ष से गुजरता है, तो यह ट्यूब की दीवार पर एक फिल्म के आकार में बहता है, इसलिए इसे आमतौर पर तरल फिल्म बाष्पीकरणकर्ता के रूप में जाना जाता है। बाष्पीकरणकर्ता में सामग्रियों के विभिन्न प्रवाह दिशाओं के अनुसार, एकल पास बाष्पीकरणकर्ताओं को निम्नलिखित प्रकारों में विभाजित किया जाता है।
1. एक उभरती हुई फिल्म बाष्पीकरणकर्ता का ताप कक्ष कई ऊर्ध्वाधर लंबी ट्यूबों से बना होता है। आमतौर पर इस्तेमाल की जाने वाली हीटिंग ट्यूब का व्यास 25-50 मिमी है, और ट्यूब की लंबाई और ट्यूब के व्यास का अनुपात लगभग 100-150 है। पहले से गरम करने के बाद, तरल को बाष्पीकरणकर्ता के नीचे से डाला जाता है और हीटिंग ट्यूब में गर्म किया जाता है, उबलता है और तेजी से वाष्पीकृत होता है। उत्पन्न भाप हीटिंग ट्यूब में तेज गति से ऊपर उठती है। सामान्य दबाव संचालन के लिए उपयुक्त आउटलेट भाप वेग 20-50m/s है, और कम दबाव संचालन के लिए, भाप वेग 100-160m/s या इससे भी अधिक तक पहुंच सकता है। समाधान बढ़ती हुई भाप द्वारा संचालित होता है, जो पाइप की दीवार के साथ एक फिल्म के रूप में ऊपर उठता है और वाष्पित होता रहता है। वाष्प और तरल के मिश्रण को विभाजक 2 में अलग किया जाता है, और पूर्ण तरल को विभाजक के नीचे से छुट्टी दे दी जाती है, जबकि द्वितीयक भाप को ऊपर से छुट्टी दे दी जाती है। यह ध्यान दिया जाना चाहिए कि यदि तरल से वाष्पित होने वाले पानी की मात्रा बड़ी नहीं है, तो आवश्यक वाष्प वेग प्राप्त करना मुश्किल होगा, अर्थात, बढ़ती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता केंद्रित समाधानों को वाष्पित करने के लिए उपयुक्त नहीं है; यह उच्च चिपचिपाहट, आसान क्रिस्टलीकरण या स्केलिंग वाली सामग्रियों के लिए भी उपयुक्त नहीं है।
2. गिरती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता और बढ़ती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता के बीच अंतर यह है कि फ़ीड तरल बाष्पीकरणकर्ता के शीर्ष से जोड़ा जाता है, और गुरुत्वाकर्षण की क्रिया के तहत, यह पाइप की दीवार के साथ वंश की तरह एक फिल्म बनाता है, और इस प्रक्रिया के दौरान वाष्पित और गाढ़ा हो जाता है, जिससे इसके तल पर एक केंद्रित तरल प्राप्त होता है। उभरती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता से अलग फिल्म बनाने की प्रक्रिया के कारण, गिरती हुई फिल्म बाष्पीकरणकर्ता उच्च सांद्रता, चिपचिपाहट (जैसे 0.05-0.45Ns/m2 की सीमा में), और थर्मल संवेदनशीलता के साथ सामग्री को वाष्पित कर सकता है। हालाँकि, ट्यूब के अंदर तरल फिल्म के असमान वितरण और बढ़ती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता की तुलना में कम गर्मी हस्तांतरण गुणांक के कारण, यह अभी भी उन सामग्रियों के लिए उपयुक्त नहीं है जो क्रिस्टलीकरण या स्केलिंग के लिए प्रवण हैं।
एकतरफ़ा बाष्पीकरणकर्ता में घोल के फिल्म जैसे प्रवाह के कारण, संवहन ताप अंतरण गुणांक में काफी सुधार होता है, जिससे घोल आगे के संचलन के बिना हीटिंग कक्ष के माध्यम से एक पास में आवश्यक एकाग्रता तक पहुंचने की अनुमति देता है। इसलिए, परिसंचरण बाष्पीकरणकर्ता की तुलना में इसके अधिक फायदे हैं। समाधान को प्रसारित न करने के लाभों में शामिल हैं: (1) बाष्पीकरणकर्ता में समाधान का निवास समय बहुत कम है, जो इसे थर्मोसेंसिव सामग्रियों के वाष्पीकरण के लिए विशेष रूप से उपयुक्त बनाता है; (2) संपूर्ण घोल की सांद्रता हमेशा परिसंचरण प्रकार की तरह तैयार तरल की सांद्रता के करीब नहीं होती है, इसलिए इस बाष्पीकरणकर्ता का प्रभावी तापमान अंतर अपेक्षाकृत बड़ा होता है। इसका मुख्य नुकसान यह है कि यह फ़ीड लोड में उतार-चढ़ाव के प्रति काफी संवेदनशील है, और जब डिज़ाइन या संचालन उपयुक्त नहीं होता है, तो फिल्म बनाना आसान नहीं होता है। इस समय, संवहन ताप अंतरण गुणांक में काफी कमी आएगी।
3. स्क्रेपर इवेपोरेटर में इवेपोरेटर शेल के अंदर एक हीटिंग स्टीम जैकेट होता है, जो घूमने योग्य ब्लेड या स्क्रेपर्स से सुसज्जित होता है। स्क्रेपर्स दो प्रकार के होते हैं: निश्चित प्रकार और रोटर प्रकार। पहले और शेल की भीतरी दीवार के बीच का अंतर 0.5{7}}1.5 मिमी है, जबकि बाद वाले और दीवार के बीच का अंतर रोटर के चक्करों की संख्या के साथ बदलता रहता है। तरल को बाष्पीकरणकर्ता के ऊपरी भाग से स्पर्शरेखा दिशा में जोड़ा जाता है (स्क्रैपर के साथ समाक्षीय सामग्री ट्रे में भी जोड़ा जाता है)। गुरुत्वाकर्षण, केन्द्रापसारक बल और घूमने वाले खुरचनी की क्रिया के कारण, समाधान उपकरण की भीतरी दीवार पर नीचे की ओर घूमने वाली एक फिल्म बनाता है, और इस प्रक्रिया के दौरान वाष्पित और केंद्रित हो जाता है, जिससे नीचे तरल का निर्वहन पूरा हो जाता है। इस प्रकार का बाष्पीकरणकर्ता एक तरफ़ा बाष्पीकरणकर्ता है जो फिल्म बनाने के लिए बाहरी शक्ति का उपयोग करता है। इसका उत्कृष्ट लाभ सामग्री के प्रति इसकी मजबूत अनुकूलनशीलता और कम निवास समय, आमतौर पर कुछ सेकंड या दसियों सेकंड है, जो इसे उच्च चिपचिपाहट (जैसे टैनिन अर्क, शहद, आदि) और क्रिस्टलीकरण, स्केलिंग और गर्मी संवेदनशीलता से ग्रस्त सामग्रियों के लिए उपयुक्त बनाता है। लेकिन इसकी संरचना जटिल है और बहुत अधिक बिजली की खपत करती है, जिसके लिए प्रति वर्ग मीटर गर्मी हस्तांतरण सतह पर लगभग 1.5-3 किलोवाट की आवश्यकता होती है। इसके अलावा, इसकी प्रसंस्करण क्षमता बहुत छोटी है और विनिर्माण और स्थापना आवश्यकताएं अधिक हैं।
सीधे संपर्क गर्मी हस्तांतरण के साथ बाष्पीकरणकर्ता
वास्तविक उत्पादन में,प्रयोगशाला बाष्पीकरणकर्ताकभी-कभी सीधे संपर्क के साथ ताप स्थानांतरण का उपयोग किया जाता है। यह ईंधन (आमतौर पर गैस और तेल) को हवा के साथ मिलाता है और इसे घोल में डुबोए गए दहन कक्ष में जलाता है, जिससे उच्च तापमान वाली लपटें और धुआं पैदा होता है जो सीधे दहन कक्ष के नीचे नोजल के माध्यम से वाष्पित घोल में फैल जाता है। उच्च तापमान वाली गैस और घोल सीधे संपर्क में आते हैं, जबकि गर्मी का स्थानांतरण पानी के वाष्पीकरण और वाष्पीकरण के लिए होता है। परिणामस्वरूप जल वाष्प और निकास गैस को बाष्पीकरणकर्ता के शीर्ष से एक साथ छुट्टी दे दी जाती है। समाधान में इसके दहन कक्ष की विसर्जन गहराई आम तौर पर 0.2 - 0.6 मीटर है, और दहन कक्ष से निकलने वाली गैस का तापमान 1000 डिग्री से अधिक तक पहुंच सकता है। सीधे संपर्क गर्मी हस्तांतरण के कारण, इसका गर्मी हस्तांतरण प्रभाव बहुत अच्छा है और गर्मी उपयोग दर अधिक है। एक निश्चित गर्मी हस्तांतरण दीवार की कमी के कारण, संरचना सरल है और विशेष रूप से उन सामग्रियों के वाष्पीकरण के लिए उपयुक्त है जो क्रिस्टलीकरण, स्केलिंग और संक्षारण के लिए प्रवण हैं। इसका उपयोग अपशिष्ट एसिड उपचार और अमोनियम सल्फेट समाधान के वाष्पीकरण में व्यापक रूप से किया गया है। लेकिन यदि वाष्पीकृत तरल को धुएं से दूषित नहीं होने दिया जाता है, तो इस प्रकार का बाष्पीकरणकर्ता आमतौर पर उपयुक्त नहीं होता है। और बड़ी मात्रा में धुएँ की उपस्थिति के कारण, द्वितीयक भाप का उपयोग सीमित है। इसके अलावा, उच्च तापमान वाले तरल में डूबने के कारण नोजल के क्षतिग्रस्त होने की संभावना अधिक होती है। उपरोक्त परिचय से, यह देखा जा सकता है कि कई संरचनात्मक प्रकार के बाष्पीकरणकर्ता हैं, प्रत्येक के अपने फायदे, नुकसान और लागू स्थितियां हैं। चयन करते समय, विचार करने वाली पहली बात यह है कि क्या यह वाष्पीकृत सामग्री की प्रक्रिया विशेषताओं के अनुकूल हो सकता है, जिसमें इसकी चिपचिपाहट, थर्मल संवेदनशीलता, संक्षारणशीलता शामिल है, और क्या यह क्रिस्टलीकरण या स्केलिंग के लिए प्रवण है। फिर, एक सरल संरचना, आसान विनिर्माण, कम धातु की खपत, सुविधाजनक रखरखाव, अच्छा गर्मी हस्तांतरण प्रभाव इत्यादि की आवश्यकता होती है।
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