लघु पथ (आणविक) आसवन का उपयोग क्यों करें?

एक कुशल और नई हरित पृथक्करण तकनीक के रूप में, आणविक आसवन अपने कम तापमान और कम ताप समय के कारण पारंपरिक पृथक्करण और निष्कर्षण विधियों के दोषों से सफलतापूर्वक बचाता है। विशेष रूप से प्राकृतिक उत्पादों के पृथक्करण, शुद्धिकरण और एकाग्रता, गर्मी-संवेदनशील उत्पादों के आसवन और अन्य पहलुओं, जैसे जटिल और गर्मी-संवेदनशील पदार्थ, जैसे विटामिन और पॉलीअनसेचुरेटेड फैटी एसिड में।लघु पथ आणविक आसवनउपकरण का उपयोग आसवन, सांद्रण, घुलनशीलता, स्ट्रिपिंग, प्रतिक्रिया, डीगैसिंग, गंधहरण (गैस) और अन्य उद्देश्यों के लिए किया जाता है, और अच्छे परिणाम प्राप्त हुए हैं।

लघु-सीमा आणविक आसवन एक थर्मल पृथक्करण प्रक्रिया है, जिसका उपयोग विशेष रूप से गर्मी-संवेदनशील उत्पादों को अलग करने के लिए किया जाता है। यह कम उत्पाद निवास समय और कम प्रक्रिया वाष्पीकरण तापमान की विशेषता है, और आसुत उत्पाद को यथासंभव कम थर्मल तनाव से पीड़ित करने का प्रयास करता है। वैक्यूम सिस्टम के साथ कम दूरी का आसवन ऑपरेटिंग दबाव को कम करके उत्पाद के क्वथनांक को काफी कम कर सकता है।

काम के सिद्धांत

उबलती फिल्म और संघनन सतह के बीच दबाव अंतर के आधार पर, यह भाप प्रवाह दिशा की प्रेरक शक्ति है। 1 एमबार पर चलने के लिए उबलने वाली सतह और संघनन सतह के बीच बहुत कम दूरी की आवश्यकता होती है। शॉर्ट-पाथ डिस्टिलर (आणविक आसवन) में हीटिंग सतह के विपरीत एक अंतर्निर्मित कंडेनसर होता है और ऑपरेटिंग दबाव को 0.001mbar तक कम कर देता है।

प्रक्रिया

सामग्री को बाष्पीकरणकर्ता के शीर्ष से जोड़ा जाता है, रोटर पर सामग्री तरल वितरक के माध्यम से हीटिंग सतह पर लगातार और समान रूप से वितरित किया जाता है, और फिर फिल्म स्क्रैपर सामग्री तरल को बहुत पतली, अशांत तरल फिल्म में स्क्रैप करता है, और इसे नीचे की ओर धकेलता है सर्पिल आकार में. इस प्रक्रिया में, हीटिंग सतह से निकलने वाले प्रकाश अणु एक छोटे मार्ग के बाद और लगभग बिना किसी टकराव के अंतर्निर्मित कंडेनसर पर तरल में संघनित हो जाते हैं, और कंडेनसर ट्यूब से नीचे प्रवाहित होते हैं और बाष्पीकरणकर्ता के नीचे डिस्चार्ज ट्यूब के माध्यम से डिस्चार्ज हो जाते हैं; वृत्ताकार चैनल में अवशिष्ट द्रव अर्थात् भारी अणु एकत्रित होते हैं।

शर्तें

• तरल चरण से वाष्पीकरण सतह तक अणुओं का प्रसार: आम तौर पर, तरल चरण में प्रसार गति आणविक आसवन गति को नियंत्रित करने का मुख्य कारक है, इसलिए तरल परत की मोटाई को जितना संभव हो उतना कम किया जाना चाहिए और प्रवाह को कम किया जाना चाहिए। तरल परत को मजबूत किया जाना चाहिए.
• तरल परत की सतह पर अणुओं का मुक्त वाष्पीकरण: तापमान बढ़ने के साथ वाष्पीकरण दर बढ़ जाती है, लेकिन तापमान बढ़ने के साथ पृथक्करण कारक कभी-कभी कम हो जाता है। इसलिए, प्रसंस्कृत पदार्थ की तापीय स्थिरता के आधार पर आर्थिक और उचित आसवन तापमान का चयन किया जाना चाहिए।
• वाष्पीकरण सतह से संघनन सतह तक उड़ने वाले अणु: वाष्पीकरण सतह से संघनन सतह तक उड़ान भरने की प्रक्रिया में, वाष्प के अणु एक दूसरे से या दोनों सतहों के बीच बचे वायु अणुओं से टकरा सकते हैं। चूँकि वाष्पीकरण के अणु हवा के अणुओं की तुलना में बहुत भारी होते हैं, और उनमें से अधिकांश की गति की दिशा एक ही होती है, उनकी अपनी टक्कर से उड़ान की दिशा और वाष्पीकरण की गति पर बहुत कम प्रभाव पड़ता है। हालाँकि, अवशिष्ट गैस अणु दो सतहों के बीच अराजक थर्मल गति में हैं, इसलिए अवशिष्ट गैस अणुओं की संख्या उड़ान दिशा और वाष्पीकरण दर को प्रभावित करने वाला मुख्य कारक है।
• संघनन सतह पर अणु संघनित होते हैं: जब तक गर्म और ठंडी सतहों के बीच पर्याप्त तापमान अंतर होता है (आमतौर पर 70 ~ 100 डिग्री) और संघनन सतह उचित और चिकनी होती है, यह माना जाता है कि संक्षेपण चरण एक पल में पूरा किया जा सकता है , इसलिए एक उचित कंडेनसर फॉर्म चुनना बहुत महत्वपूर्ण है।

लाभ

1. उच्च पृथक्करण सटीकता:लघु पथ आणविक आसवनकुशल पृथक्करण प्राप्त किया जा सकता है, और सटीक नियंत्रण प्रणाली के माध्यम से उच्च शुद्धता वाले उत्पाद प्राप्त किए जा सकते हैं।

2. हल्के पृथक्करण की स्थिति: इसे कम तापमान पर किया जाता है, इसलिए उच्च तापमान के कारण थर्मल अपघटन और ऑक्सीकरण प्रतिक्रियाओं से बचा जा सकता है, और अलग किए गए पदार्थों की स्थिरता की रक्षा की जाती है।

3. तेजी से पृथक्करण प्रक्रिया: आणविक आसवन में आसवन प्रक्रिया का समय कम होता है, जिससे समय और ऊर्जा की बचत हो सकती है और उत्पादन क्षमता में सुधार हो सकता है।

4. कई प्रकार के पदार्थों के लिए उपयुक्त: आसवन का उपयोग कई प्रकार के मिश्रणों को अलग करने के लिए किया जा सकता है, जिसमें उच्च क्वथनांक, गर्मी संवेदनशीलता, आसान ऑक्सीकरण, पायसीकरण आदि वाले पदार्थ शामिल हैं।

5. स्वचालन की उच्च डिग्री: आसवन उपकरण उन्नत नियंत्रण प्रणाली और स्वचालन उपकरण को अपनाता है, जो मैन्युअल संचालन और मानवीय त्रुटि को कम कर सकता है और पृथक्करण प्रक्रिया की स्थिरता और विश्वसनीयता में सुधार कर सकता है।

6. पर्यावरण संरक्षण और ऊर्जा की बचत: कम दूरी की आणविक आसवन में उपयोग की जाने वाली मशीन कॉम्पैक्ट होती है, जो ऊर्जा की बर्बादी को कम करती है। साथ ही, उपयोग की जाने वाली सभी सामग्रियां पर्यावरण के अनुकूल हैं और पर्यावरण पर बहुत कम प्रभाव डालती हैं।

प्रकार

• रोलिंग फिल्म के साथ कम दूरी की आणविक आसवन: इस प्रकार के आसवन उपकरण तरल फिल्म की सतह पर बुलबुले और बूंदों को खुरचने के लिए रोलिंग फिल्म का उपयोग करते हैं, इस प्रकार अपेक्षाकृत शुद्ध प्रकाश घटक प्राप्त होते हैं।
• स्लाइडिंग स्क्रैपर कम दूरी की आणविक आसवन: आसवन उपकरण स्लाइडिंग स्क्रैपर को अपनाता है, जो तरल फिल्म की मोटाई को प्रभावी ढंग से नियंत्रित कर सकता है और भारी घटकों को प्रभावी ढंग से अलग करने में सक्षम बनाता है।
• हिंज स्क्रेपर लघु पथ आणविक आसवन: यह हिंज स्क्रेपर को अपनाता है, जो सामग्री के परिवर्तन और थ्रूपुट के आकार को बेहतर ढंग से अनुकूलित कर सकता है, और इसमें उच्च लचीलापन है।

अनुप्रयोग

स्वाद और सुगंध: तंबाकू का स्वाद, गुलाब का आवश्यक तेल, संतरे के छिलके का तेल, सरू का तेल, अगरवुड, ड्रैगन सियालिल ईथर, पेरिला अल्कोहल, मीठा संतरे का तेल, काली मिर्च का तेल, अदरक का तेल और अन्य खाद्य स्वाद देने वाले एजेंट;

खाद्य और स्वास्थ्य उत्पाद: एमसीटी तेल, अखरोट का तेल, सीबकथॉर्न बीज का तेल, एसर ट्रंकैटम तेल, गैनोडर्मा ल्यूसिडम बीजाणु तेल, मोनोग्लिसराइड, वीई, मछली का तेल, कैरोटीन, आदि।

चिकित्सा: फार्मास्युटिकल मध्यवर्ती, फार्मास्युटिकल मोनोमर्स का संश्लेषण, और पौधों से निकाली गई दवाओं का शोधन;

पेट्रोकेमिकल उद्योग: पॉलीओल एस्टर चिकनाई तेल, सिलिकॉन तेल, अपशिष्ट चिकने तेल का पुनर्जनन, पॉलीएसिड ग्रीस, पॉलीएल्केन, उच्च तापमान गर्मी हस्तांतरण तेल, विमानन चिकनाई तेल;

नई सामग्री: एपॉक्सी राल, लिक्विड क्रिस्टल सामग्री, ओएलईडी सामग्री, लिथियम बैटरी एडिटिव, पीआई लचीली सामग्री, चिपकने वाला, जलरोधी सामग्री और प्लास्टिसाइज़र।

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